客服热线：
| 品牌SUSS MicroTec | 有效期至长期有效 | 最后更新2026-08-03 15:08 |
| 浏览次数99 |
德国 SUSS MicroTec LABSPIN 8TT型旋涂机
公司简介
德国SUSS MicroTec提供光刻、涂胶显影、键合等半导体工艺设备，产品面向研发与生产场景。
产品简介
LabSpin 8TT为台式手动旋涂机，适配≤200mm圆形晶圆及150×150mm方形基板。转速范围50-8000rpm，精度±1rpm，加速度最高4000rpm/s，支持200组配方存储，用于光刻胶均匀涂覆工序。
详细介绍
LabSpin 8TT是SUSS专为半导体实验室与研发环境设计的台式手动旋涂系统，属于LabSpin系列中适配最大基板尺寸的型号。设备采用台式（Table-Top）独立机柜设计，内置文丘里真空发生器，无需外接真空泵即可实现基板吸附，节省洁净室空间。
在核心性能方面，设备转速范围为50-8000rpm，在200mm卡盘配置下控制精度达±1rpm，从低速铺展到高速甩薄均可精确复现。加速度最高4000rpm/s且支持无级调节，可根据光刻胶材料特性定制升降速曲线，有助于减少涂覆过程中的薄膜缺陷。旋涂时间可编程范围为1-999秒，支持200组工艺配方存储，单配方最多40个步骤，便于工艺参数的精细调整与实验复现。
工艺腔体采用可拆卸聚丙烯工艺碗设计，便于不同化学试剂间的快速切换与清洁维护，避免交叉污染。配备安全玻璃盖板与盖板开启互锁功能，保障操作安全性。可选配手动注射器点胶、半自动点胶、全自动点胶及边珠去除（EBR）功能，还可配置显影液点胶、去离子水冲洗及氮气干燥等显影模块，支持水坑式显影工艺。
技术参数
| 型号 | LabSpin 8TT |
| 版本 | 台式（Table-Top） |
| 适配基板 | ≤200mm圆形；≤150×150mm方形；碎片及定制形状 |
| 转速范围 | 50 - 8000 rpm（精度±1rpm） |
| 最大加速度 | 4000 rpm/s（200mm卡盘） |
| 配方容量 | 200个，每配方最多40步 |
| 单步时间 | 1 - 999 s |
| 电机类型 | 无刷EC电机，空心轴 |
| 工艺腔体 | 可拆卸PP工艺碗+安全玻璃盖 |
| 外形尺寸（W×D×H） | 约350×455×420 mm |
| 电源要求 | 115/230 VAC，50/60 Hz |
| 气源要求 | 5-6 bar压缩空气 |
| 可选功能 | 自动点胶、EBR、显影模块、氮气吹扫 |
应用行业
半导体研发与高校实验室：光刻胶涂覆工艺开发、新材料配方验证
MEMS与传感器制造：压力传感器、加速度计、微流控芯片多层光刻加工
功率半导体与化合物半导体：SiC/GaN衬底厚胶钝化层、栅极光刻胶旋涂
先进封装研发：扇出型晶圆级封装、RDL重布线层光刻胶涂覆工艺调试
光电子与显示：Mini/MicroLED、光波导器件基板涂覆
| 徐豪杰 QQ：2351635597 手机：18519260275 电话：010-64714988-186 传真：010-84786709-667 邮件：sales65@handelsen.cn |
 |
 |
