德国 hellma CaF2 193nm 氟化钙晶体，按尺寸可定制

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二、产品简介​

hellma CaF2 193nm 氟化钙晶体，专为 193nm 波长应用设计，具备高透光率与低杂质特性，适配精密光学场景，加工精度高且稳定性强。​

三、详细介绍​

（一）优质材质与精密加工​

该晶体选用高纯度氟化钙（CaF2）原料，经提纯处理后杂质含量低，能有效减少 193nm 波长下的光吸收与散射，保障光学性能稳定；采用精密切割与抛光工艺，晶体表面光洁度高（表面粗糙度 Ra≤1nm），平行度误差小（≤30 arcsec），可减少光线反射损耗，适配高精度光学系统的光路传输需求；晶体结构均匀，无明显内部缺陷（如气泡、裂痕），长期使用不易因结构问题导致光学性能衰减，延长元件使用寿命。​

（二）适配 193nm 波长的光学性能​

核心性能上，在 193nm 深紫外波长下透光率高（典型值见技术参数），能高效传递该波长光线，满足深紫外光刻、光谱分析等场景的光路需求；折射率稳定性强，在宽温度范围（具体范围见技术参数）内折射率变化小，可减少温度波动对光路精度的影响，适配环境温度变化的工业或实验室场景；具备良好的抗激光损伤阈值（典型值见技术参数），能耐受一定功率的 193nm 激光照射，避免激光能量过高导致晶体损坏，保障光学系统持续运行。​

（三）便捷适配与稳定应用​

适配性方面，晶体可根据需求加工为不同尺寸与形状（如片状、块状、窗口片），能与各类光学组件（如透镜、棱镜、激光器）精准对接，简化光学系统集成流程；表面可按需镀制增透膜（针对 193nm 波长），进一步提升透光率，减少反射损失，适配对光路效率要求高的场景；日常使用中无需复杂维护，仅需避免物理碰撞与化学腐蚀（如避免接触强酸强碱），即可保持稳定光学性能，降低使用成本。​

四、技术参数​

型号：CaF2 193nm（按尺寸可定制）​

产品类型：氟化钙光学晶体​

核心光学参数​

适配波长：193 nm（深紫外波段）​

193nm 波长透光率：≥90%（2mm 厚度，未镀膜）；≥95%（镀 193nm 增透膜后）​

折射率（193nm）：1.501（25℃时）​

折射率温度系数：1.1×10⁻⁵/℃（-20℃-+60℃）​

抗激光损伤阈值（193nm，10ns 脉冲）：≥5 J/cm²​

杂质含量：金属离子杂质≤10 ppm​

结构与物理参数​

常用尺寸：10mm×10mm×2mm、20mm×20mm×3mm（可定制）​

表面光洁度：Ra≤1nm​

平行度：≤30 arcsec​

垂直度：≤0.1°​

工作温度范围：-20℃-+60℃​

硬度（莫氏硬度）：4​

热膨胀系数：18.8×10⁻⁶/℃（25℃-300℃）​

五、应用场景​

半导体光刻领域：用于 193nm 深紫外光刻设备的光学窗口、棱镜组件，高透光率保障光刻光束精准传输，适配半导体芯片制造中的精细图案曝光工序，助力提升芯片制程精度。​

光谱分析领域：安装在深紫外光谱仪（如紫外 - 可见分光光度计）的样品室窗口、光路转折元件，低杂质特性减少光谱干扰，适配科研实验室对物质深紫外波段光谱分析的需求，如材料成分检测、污染物分析。​

激光技术领域：作为 193nm 准分子激光器的输出窗口、光束整形元件，良好的抗激光损伤阈值耐受激光能量，适配工业激光加工（如精密打标、材料蚀刻）、激光医疗（如眼科手术辅助激光）等场景。​

光学检测领域：用于光学元件检测设备（如干涉仪）的标准校准元件、光路传输窗口，高平行度与低散射特性保障检测精度，适配光学制造厂对透镜、棱镜等元件的质量检测环节。​

航空航天领域：在卫星搭载的深紫外遥感设备（如大气成分探测仪）中，作为光学系统的核心传输元件，宽温度范围下的折射率稳定性保障太空环境中的探测精度，适配大气监测、天体观测等航天任务。​

材料科学领域：用于深紫外光催化实验、材料表面改性研究的光路组件，高透光率传递 193nm 光线激发材料反应，适配高校、科研机构对新型材料光学特性、催化性能的研究场景。​