德国 Mlase MLI-ARF 1000LC 型准分子激光器

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二、产品简介​

Mlase MLI-ARF 1000LC 型准分子激光器，输出 193nm 波长激光，脉冲能量稳定，适配精密刻蚀、科研测试等场景。​

三、详细介绍​

Mlase MLI-ARF 1000LC 型准分子激光器以 “精密激光应用”“稳定能量输出” 为核心设计方向，可满足半导体刻蚀、材料表面改性、科研实验等场景的激光需求，覆盖半导体制造、新材料研发、生物医疗等领域。该激光器采用模块化结构设计，占地面积约 1.2㎡，支持地面固定式安装，无需复杂的地基改造，仅需根据应用场景调整激光输出光路，即可快速接入生产线或实验平台，降低激光系统部署难度。​

从激光性能来看，激光器输出波长为 193nm（ArF 准分子激光），属于深紫外波段，具备高光子能量（约 6.4eV），可实现材料的精准去除与改性，适配半导体芯片的精细刻蚀、光学元件的微结构加工等场景；脉冲能量可达 1000mJ，脉冲宽度 5-20ns 可调，能根据加工需求灵活调整能量密度，避免过度加工损伤材料；激光光束质量因子 M²≤1.2，光斑均匀性≥90%，确保加工区域能量分布一致，提升加工精度。相比传统紫外激光器，其脉冲重复频率可达 100Hz，能提升加工效率，适配中小批量精密零件的生产需求；同时具备能量反馈控制功能，实时监测输出能量，偏差超过 ±2% 时自动调整，保障长期运行稳定性。​

材质与耐用性方面，激光器核心放电模块采用耐腐蚀金属材质，内部电极经过特殊涂层处理，使用寿命可达 1000 万脉冲以上，减少核心部件更换频率；光学元件选用高透过率熔融石英材质，表面镀膜采用离子辅助沉积技术，抗激光损伤阈值高（≥2J/cm²），避免长期使用导致的光学性能衰减；冷却系统采用水冷与风冷结合设计，可将核心部件温度控制在 ±0.5℃范围内，避免温度波动影响激光输出稳定性；设备外壳采用冷轧钢板喷塑处理，防护等级达 IP43，可防粉尘与轻微飞溅水，适配工业车间与实验室环境，延长设备使用寿命。​

操作与维护方面，激光器配备触控式操作面板与远程控制软件，支持参数设置（如脉冲能量、频率）、状态监测与故障报警，操作便捷；日常维护仅需定期清洁光学元件表面（每 3 个月一次）、检查冷却系统水质与压力、更换空气过滤器，无需专业人员拆解核心模块；若出现故障，设备具备故障代码显示功能（如 “E101” 表示冷却水温异常），可快速定位问题，维护耗时短（≤2 小时），降低生产与实验中断成本，适配连续运行需求。​

四、技术参数​

型号：MLI-ARF 1000LC​

产品类型：ArF 准分子激光器​

输出波长：193nm​

脉冲能量：最大 1000mJ（10Hz 重复频率下）​

脉冲宽度：5-20ns（可调）​

脉冲重复频率：1-100Hz（可调）​

光束质量：M²≤1.2​

光斑均匀性：≥90%（在 20mm×20mm 光斑范围内）​

能量稳定性：±2%（连续运行 8 小时）​

激光输出方式：自由空间输出（配光学转向镜）​

冷却方式：水冷（水温控制 20-25℃，流量 5L/min）+ 风冷​

工作环境​

环境温度：15-30℃​

相对湿度：30%-70% RH（无冷凝）​

电源要求：380V AC，50/60Hz，最大功耗 15kW​

使用寿命：核心部件（放电模块）≥1000 万脉冲​

控制接口：Ethernet、RS485​

认证标准：符合 CE、FDA 21 CFR Part 1040.10（激光安全）​

五、应用场景​

半导体制造领域：用于半导体芯片的深紫外光刻与刻蚀，193nm 波长激光可实现微米级甚至纳米级电路图案加工，适配高端芯片制造流程。​

材料加工领域：应用于光学玻璃、蓝宝石衬底的微结构加工，如制备微透镜阵列、光栅，高能量密度激光可精准去除材料，保障加工精度。​

科研实验领域：安装于高校与科研机构的材料实验室，用于研究材料在深紫外激光下的光化学反应、表面改性机制，适配新材料研发实验。​

医疗设备领域：适配医用激光治疗设备，用于角膜屈光手术、皮肤病变治疗，193nm 激光具备精准的组织去除能力，减少对周边组织损伤。​

电子元件领域：用于印制电路板（PCB）的精细钻孔与切割，激光可在绝缘材料与金属层上实现高精度加工，适配高密度 PCB 制造需求。​