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| 品牌Hellma | 有效期至长期有效 | 最后更新2026-07-10 10:44 |
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德国Hellma CaF₂氟化钙光学晶体材料
公司简介
德国Hellma深耕光学晶体与精密光学器件领域，专注光学材料研发制备，适配光谱检测、激光光学及精密仪器配套。
产品简介
CaF₂氟化钙为广谱透射光学单晶材料，覆盖深紫外至红外透光波段，色散系数低、荧光效应弱，适配精密光谱、激光设备及光刻光学配套应用。
详细介绍
德国Hellma CaF₂氟化钙单晶采用高纯原料单晶生长工艺成型，晶格致密规整、内部杂质含量极低，有效降低光路光损耗与波前畸变，提升整套光学系统成像、检测精度。材料透光区间130nm~9μm，贯通真空深紫外、可见光、中红外全波段，弥补石英、普通光学玻璃深紫外透光不足的短板，适配多波段高精度光谱分析。
氟化钙晶体具备低色散、低双折射优势，色差干扰极小；同时拥有优异抗电离辐射、抗激光损伤能力，长期承受高能光束照射光学性能衰减微弱。化学性质稳定，兼容多数中性、弱腐蚀工艺介质，可精加工为光学窗口、比色皿、透镜等各类光学元件，适用于精密光学设备整机配套，亦可替换传统光学玻璃、石英元件完成系统升级。
核心技术参数
| 产品材质 | 高纯度CaF₂氟化钙单晶晶体 |
| 透光波段 | 130nm～9μm（深紫外至红外广谱透射） |
| 折射率 | nd=1.43384（常规工况） |
| 色散系数 | vd=95.23，光谱色散水平低 |
| 双折射指标 | ≤5×10⁻⁷，波前畸变可控 |
| 力学性能 | 莫氏4级硬度，热膨胀系数稳定 |
| 光学特性 | 低荧光、低光损耗、透光均匀 |
| 耐受性能 | 抗激光损伤、抗电离辐射、耐老化 |
| 加工形态 | 可制作为光学窗口、比色皿、透镜镜片 |
| 适配系统 | 光谱仪、激光设备、光刻光学系统 |
应用场景
精密光谱检测行业
制造深紫外、红外光谱仪核心透光元件，降低光路干扰，保障微量样品检测精度与数据重复性。
激光光学领域
用作准分子激光设备光路窗口、镜片，耐受高能激光长期连续输出，光路性能稳定。
半导体微光刻行业
加工光刻光路精密光学组件，满足芯片高精度制程严苛光学指标要求。
科研航天检测领域
依托优异抗辐射特性，适配空间光学探测、各类科研光学实验装置。氟化钙单晶光学性能稳定、多工况兼容，可满足光学设备全新配套及老旧光学元件迭代替换需求。
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